X線光電子分光装置
(XPS/ESCA: X-ray Photoelectron Spectroscopy/Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)
- ・機器名
アルバック・ファイ株式会社 PHI Quantera SXM-CI （平成２２ 年度設置）
- ・ 概要
試料にX線を照射し、試料表面から放出される光電子のエネルギーを測定することにより表面の組成並びに化学結合状態に関する情報を得る手法です。
- ・ 仕様
X線光学系 |
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ビーム径 |
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最小9μｍ～200μｍ |
最高エネルギー分解能 |
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0.49eV以下（Ag3d 5/2) |
最大感度 |
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3,000,000cps(Ag3d 5/2の半値幅1.3evのとき |
到達圧力 |
: |
6.7×10-8Pa以下 |
- ・ 設置場所
1階 １２２室
- ・ 留意事項
- 利用者講習会受講のこと。
- X線従事者登録が必要な設備です。使用の際は、ガラスバッチを着用してください。
