学外共同利用機器一覧

外観	研究機器	分類 すべて 分析計測機器 分析計測機器・X線分析 分析計測機器・バイオ関連分析 分析計測機器・分光分析 分析計測機器・核磁気共鳴 分析計測機器・汎用化学分析 分析計測機器・試料作製 分析計測機器・顕微鏡 加工・エッチング 半導体プロセス、イオン注入 半導体プロセス、リソグラフィ 半導体プロセス、加工・エッチング 半導体プロセス、後工程 半導体プロセス、成膜 半導体プロセス、洗浄 半導体プロセス、観察・評価 半導体プロセス、酸化、熱処理 可搬型計測機器（貸出可） 工作・加工機器 工具・道具類（貸出可） 観察・評価	設置場所 すべて 実験実習工場 教育研究基盤センター 教育研究支援センター	共同利用

	デジタルマイクロスコープ キーエンス VHX-8000	分析計測機器	教育研究基盤センター 221	○
	白色干渉計搭載レーザー顕微鏡 キーエンス VK-X3000/3100	分析計測機器	教育研究基盤センター 221	○
	３D計測器（光学スキャナ型） キーエンス VL-500	分析計測機器	実験実習工場	○
	３Dプリンタ（樹脂用） キーエンス AGILISTA-3200	工作・加工機器	実験実習工場	○
	３Dプリンタ（カーボンファイバ混合用） Markforged MarkTwo	工作・加工機器	実験実習工場	○
	一般旋盤 TAKISAWA TSL550	工作・加工機器	実験実習工場	○
	ウォータージェットカッター コムネット Wazer	工作・加工機器	実験実習工場	○
	プラズマ切断機 ダイヘン M-1500C	工作・加工機器	実験実習工場	○
	パーティクルカウンター 日本カノマックス Model3889-01	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	高速度カメラ フォトロン FASTCAM Mini AX200	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	赤外線カメラ（低温～中温） OPTRIS/アルゴ PI640i OF033	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	赤外線カメラ（中温～高温） OPTRIS/アルゴ PI1M OF25	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	赤外線カメラ（高温） OPTRIS/アルゴ PI05 OF25	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	電力モニタ（パワーメータ） HIOKI PW3335	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	電力モニタ（クランプオンパワーロガー） HIOKI PW3365-10	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	電力モニタ（ワイヤレスクランプロガー） HIOKI LR8513	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	データロガー（高速度カメラ連携可） グラフテック midi Logger GL980	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	ミラーレスカメラ ニコン Z6Ⅱ24-70レンズキット	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	紫外線測定器（UV-A，B，C各プローブ付き） Delta OHM HD2102.2	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	EMCプローブ_LF1 Langer Near-Field Probes set LF1 set	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	EMCプローブ_RF6 Langer Near-Field Probes set RF6 set	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	リアルタイム・スペクトラム・アナライザ 日本テクトロニクス RSA3303A-02,R3	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	インピーダンスアナライザ 日置電機(株) IM3536 LCRﾒｰﾀｰ	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	USB熱電対パワーセンサー#1 ｷｰｻｲﾄ･ﾃｸﾉﾛｼﾞｰ U8481A 他	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	USB熱電対パワーセンサー#2 ｷｰｻｲﾄ･ﾃｸﾉﾛｼﾞｰ U8481A 他	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	オシロスコープ テクトロニクス TPS2014B	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	差動プローブ#1 Testec 15106 70MHz 7000V	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	差動プローブ#2 Testec 15106 70MHz 7000V	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	ワイヤレスロギングステーション 日置電機(株) LR8410-91	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	デジタルマルチメーター AgilentTechnologies 3458A	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	デジタルロックインアンプ NF回路ブロック LI5630	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	ファンクションジェネレータ NF回路ブロック WF1946A	可搬型計測機器（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	六角棒レンチセット（インチタイプ）、TRUSCO	工具・道具類（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	六角ドライバセット（ボールポイント型）、SUNFLAG	工具・道具類（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	六角レンチセット（T型グリップツインヘッド）、IceToolz	工具・道具類（貸出可）	教育研究基盤センター1F管理室	○
	UV・オゾンクリーナー(CMOS用) サムコ Model UV-300	半導体プロセス、洗浄	固体機能デバイス	○
	UV・オゾンクリーナー(センサ/MEMS用) サムコ Model UV-1	半導体プロセス、洗浄	VBL 1F	○
	バッチ式Siウエハ洗浄装置 CWC 4+4M	半導体プロセス、洗浄	固体機能デバイス	○
	超臨界洗浄・乾燥装置 レクザム SCRD4	半導体プロセス、洗浄	VBL 1F	○
	CMOS用Alスパッタ装置 アネルバ 直流スパッタシステム	半導体プロセス、成膜	固体機能デバイス	○
	マルチターゲットRF/DCスパッタ装置（CMOS用） キャノンアネルバ E-400S	半導体プロセス、成膜	固体機能デバイス	○
	酸化膜用スパッタ装置 キャノンアネルバ E-200S	半導体プロセス、成膜	VBL 1F	○
	イオンコータ アルバック機工 VPS-050	半導体プロセス、成膜	固体機能デバイス	○
	VLS結晶成長用金蒸着装置 アネルバ L-045E	半導体プロセス、成膜	VBL 1F	○
	プラズマCVD装置（CMOS用） サムコ PD-220M	半導体プロセス、成膜	VBL 1F	○
	プラズマCVD装置（MEMSデバイス用） サムコ PD-220NS	半導体プロセス、成膜	VBL 1F	○
	リフロー用プラズマCVD装置（CMOS用） サムコ PD-220NLM	半導体プロセス、成膜	固体機能デバイス	○
	LPCVD装置（CMOS用） ディー・エス・アイ DJ-11S689－M3	半導体プロセス、成膜	固体機能デバイス	○
	LPCVD装置（MEMS用） ディー・エス・アイ DJ-11S689－M3	半導体プロセス、成膜	固体機能デバイス	○
	パリレンコータ 日本パリレン PDS2010	半導体プロセス、成膜	VBL 1F	○
	CMOS用　酸化・アニール炉 光洋リンドバーグ MODEL272H-300H15X070H	半導体プロセス、酸化、熱処理	固体機能デバイス	○
	水素アニール炉（CMOS用） 光洋サーモシステム KTF773N-AS	半導体プロセス、酸化、熱処理	VBL 1F	○
	水素アニール炉（Si汎用） 光洋リンドバーグ 272M-200H15X070H	半導体プロセス、酸化、熱処理	固体機能デバイス	○
	2段酸化炉（Al2O3/Si基板用、Si汎用） 光洋サーモシステム	半導体プロセス、酸化、熱処理	VBL 1F	○
	化合物半導体用酸化炉（OEIC用） 光洋サーモシステム KTF080N-PA WET	半導体プロセス、酸化、熱処理	VBL 1F	○
	リン拡散炉 光洋リンドバーグ 272M-200H15X070H	半導体プロセス、酸化、熱処理	固体機能デバイス	○
	イオン注入装置 日新イオン機器 EXCEED2300SDV	半導体プロセス、イオン注入	固体機能デバイス	○
	i線ステッパ ニコンテック NSR-TFHi12CH	半導体プロセス、リソグラフィ	固体機能デバイス	○
	コンタクトマスクアライナ（2インチ自動ローディング） キャノン販売 PLA-501(F)	半導体プロセス、リソグラフィ	固体機能デバイス	○
	コンタクトマスクアライナ（2インチ自動ローディング） キャノン PLA-501(F)	半導体プロセス、リソグラフィ	固体機能デバイス	○
	コンタクトマスクアライナ（2インチ手動ローディング） キャノン PLA-501	半導体プロセス、リソグラフィ	固体機能デバイス	○
	コンタクトマスクアライナ（4インチ手動ローディング） キャノン PLA-600	半導体プロセス、リソグラフィ	固体機能デバイス	○
	両面アライナ SUSS Micro Tec AG	半導体プロセス、リソグラフィ	固体機能デバイス	○
	EB描画装置 日本電子 JBX-6300DA	半導体プロセス、リソグラフィ	固体機能デバイス	○
	i線用レジスト塗布・現像装置 ASAP PRD4-000-07-2	半導体プロセス、リソグラフィ	固体機能デバイス	○
	レジストスプレーコーター ウシオ電機 USC-2000	半導体プロセス、リソグラフィ	固体機能デバイス	○
	レジストアッシング装置（CMOS用） サムコ PC-1100	半導体プロセス、リソグラフィ	VBL 1F	○
	レジストアッシング装置（MEMS用） サムコ Model PX-250M	半導体プロセス、リソグラフィ	VBL 1F	○
	集束イオンビーム加工装置（FIB） エスアイアイ・ナノテクノロジー SMI3200TS	半導体プロセス、加工・エッチング	VBL 1F	○
	反応性イオンエッチング装置（MEMS F系ガス用） サムコ RIE-200F	半導体プロセス、加工・エッチング	VBL 1F	○
	反応性イオンエッチング装置（MEMS Cl系ガス用） サムコ RIE-200NL	半導体プロセス、加工・エッチング	VBL 1F	○
	反応性イオンエッチング装置（CMOS F系ガス用） アネルバ L-451D-L	半導体プロセス、加工・エッチング	固体機能デバイス	○
	反応性イオンエッチング装置（CMOS Cl系ガス用） アネルバ L-451D-L	半導体プロセス、加工・エッチング	固体機能デバイス	○
	Si深堀りエッチング装置（Deep-RIE） 住友精密工業 MUC21-RD	半導体プロセス、加工・エッチング	VBL 1F	○
	誘導結合型反応性イオンエッチング装置（ICP-RIE） アルバック CE-300I	半導体プロセス、加工・エッチング	VBL 1F	○
	Siエッチング装置（XeF2ガス） Xactix Xetech　E1-β	半導体プロセス、加工・エッチング	VBL 1F	○
	Siウエハ用レーザーダイシング装置 東京精密 ML200	半導体プロセス、後工程	固体機能デバイス	○
	ダイシングソー 東京精密 A-WD-10A	半導体プロセス、後工程	VBL 1F	○
	ワイヤーボンダー（Au） ハイソル West bond 7700D-79	半導体プロセス、後工程	固体機能デバイス	○
	ワイヤーボンダー（Aｌ） ハイソル West bond 7476D	半導体プロセス、後工程	固体機能デバイス	○
	CLSM：レーザー顕微鏡 オリンパス OLS3100	半導体プロセス、観察・評価	固体機能デバイス	○
	SEM：測長機能付き走査型電子顕微鏡 日本電子 JSM-7100F	半導体プロセス、観察・評価	固体機能デバイス	○
	温度可変プローバ・計測器システム ハイソル	半導体プロセス、観察・評価	固体機能デバイス	○
	ウエハープローバ・計測器システム 東京精密、アジレント A-PM-50A 　4155C	半導体プロセス、観察・評価	固体機能デバイス	○
	FIB：集束イオンビーム装置 日立ハイテクノロジーズ NB5000	加工・エッチング	EIIRIS 2F 共同研究室5	○
	CLSM：正立型共焦点顕微鏡 ニコン A1rsi-TY	観察・評価	EIIRIS 2F バイオ実験室	○
	SEM：EDS付走査型電子顕微鏡 日立ハイテクノロジーズ：Thermo Fisher S-3000N:NORAN SYSTEM SIX	観察・評価	EIIRIS 2F 共同研究室5	○
	デジタルマイクロスコープ キーエンス VHX-500	観察・評価	EIIRIS 2F 共同研究室5	○
	高速イメージング顕微ラマン分光システム 日本分光 NRS-7100	観察・評価	EIIRIS 2F 共同研究室5	○
	PL(フォトルミネッセンス)/RAMAN 測定装置 HORIBA JOBIN Yvon LabRAM HR-800	観察・評価	EIIRIS 2F 共同研究室5	○
	TEM：透過型電子顕微鏡 日本電子 JEM-2100F	分析計測機器	教育研究基盤センター110	○
	TEM：透過型電子顕微鏡 日本電子 JEM-1400 Plus	分析計測機器	教育研究基盤センター114	○
	FE-SEM：電界放出形走査電子顕微鏡 日立ハイテクノロジーズ SU8000TypeⅡ	分析計測機器	教育研究基盤センター122	○
	SEM：走査型電子顕微鏡 日本電子 JSM-IT100	分析計測機器	教育研究基盤センター114	○
	SEM：低真空走査電子顕微鏡 日立ハイテクノロジーズ SU3500	分析計測機器	教育研究基盤センター124	○
	LM：光学顕微鏡 ZEISS	分析計測機器	教育研究基盤センター107	○
	デジタルマイクロスコープ キーエンス VHX-8000	分析計測機器	教育研究基盤センター221	○
	白色干渉計搭載レーザー顕微鏡 キーエンス VK-X3000/3100	分析計測機器	教育研究基盤センター221	○
	薄膜断面試料作製装置 日本電子 EM-09100IS	分析計測機器・試料作製	教育研究基盤センター202	○
	精密イオン研磨システム 日本電子 Model691	分析計測機器・試料作製	教育研究基盤センター202	○
	ウルトラミクロトーム LEICA EM UC7	分析計測機器・試料作製	教育研究基盤センター221	○
	FT-IR：顕微FT-IRスペクトル装置 日本分光 FT/IR-6600	分析計測機器・分光分析	教育研究基盤センター224	○
	紫外可視分光光度計 日本分光 V-550	分析計測機器・分光分析	教育研究基盤センター224	○
	紫外可視近赤外分光光度計 島津製作所 UV-3600 Plus	分析計測機器・分光分析	教育研究基盤センター224	○
	分光蛍光光度計 日立 F-7000	分析計測機器・分光分析	教育研究基盤センター224	○
	誘導結合プラズマ発光分析装置 サーモフィッシャーサイエンティフィック iCAP-7200 Duo	分析計測機器・分光分析	教育研究基盤センター224	○
	XRD：強力X線回折装置 リガク RINT-2500	分析計測機器・X線分析	教育研究基盤センター118	○
	XRD：四軸型単結晶X線回折装置 理学電機 RASA-7R	分析計測機器・X線分析	教育研究基盤センター117	○
	XPS(ESCA)： X線光電子分光装置 アルバック・ファイ PHI Quantera SXM-CI	分析計測機器・X線分析	教育研究基盤センター122	○
	XRF(EDXRF)：エネルギー分散形蛍光X線分析装置 日本電子 JSX-3100RⅡ	分析計測機器・X線分析	教育研究基盤センター114	○
	マイクロフォーカスＸ線CTシステム 島津製作所 inspeXio SMX-225CT FPD HR Plus	分析計測機器・X線分析	教育研究基盤センター132	○
	Ｘ線回折装置　SmartLab リガク SmartLab	分析計測機器・X線分析	教育研究基盤センター118	○
	NMR：核磁気共鳴装置 日本電子 JNM-ECX500	分析計測機器・核磁気共鳴	B2-402	○
	NMR：核磁気共鳴装置 日本電子 JNM-ECS400	分析計測機器・核磁気共鳴	B2-402	○
	粒度分布測定装置 島津製作所 SALD-2300	分析計測機器・汎用化学分析	教育研究基盤センター107	○
	AFM：原子間力走査型プローブ顕微鏡 アサイラムテクノロジー MFP-3D-BIO-TS	分析計測機器・顕微鏡	総合研究実験棟101	○
	FE-SEM：電界放出形走査電子顕微鏡 日立ハイテクノロジーズ S-4800	分析計測機器・顕微鏡	B3-101	○
	LSM：3D測定レーザー顕微鏡 オリンパス OLS4100	分析計測機器・顕微鏡	B3-101	○
	CLSM：共焦点レーザスキャン顕微鏡 独国カールツァイスマイクロイメージング LSM700	分析計測機器・顕微鏡	G-518	○
	クリオスタット LEICA CM3050S	分析計測機器・試料作製	G-518	○
	超遠心分離機 米国ベックマンコールター L-100XP	分析計測機器・試料作製	G-513	○
	FT-IR：赤外分光測定装置 日本分光 FT/IR-6100	分析計測機器・分光分析	B2-210	○
	レーザーラマン分光光度計 日本分光 NRS-1000	分析計測機器・分光分析	D1-401	○
	顕微レーザーラマン分光光度計 日本分光 NRS-1000	分析計測機器・分光分析	D4-403	○
	円二色性分散計 日本分光 J-805	分析計測機器・バイオ関連分析	B2-407	○
	XRD：多目的X線回折装置 リガク UltimaⅣ R185/XRD-DSC ⅡST	分析計測機器・X線分析	B2-210	○
	3D表示＆解析ソフトウエア Volume Graphics VGSTUDIO MAX 3.5	分析計測機器・X線分析	教育研究基盤センター132	○

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